一、法律依據

二、布圖設計獨創性舉證責任

三、專有權人的布圖設計與被訴芯片應具有同一性

　1、布圖設計專有權人應首先向法院明確其布圖設計中具有獨創性的內容，同時向法院提交自行比對的與被訴芯片具有同一性的結果。

2、被訴芯片復制全部布圖設計中的任一獨創性設計，即落入專有權保護范圍。

3、盡可能選擇布圖設計圖樣作為檢材與被訴芯片進行比對。

　4、同一性比對時，先行確定被訴芯片與布圖設計相同部分，再就該部分是否具有獨創性進行審查。

　　在深圳市華彩威科技有限公司與深圳市明微電子股份有限公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【廣東省高級人民法院(2017)粵民終1145號】中：

　　“在侵犯集成電路布圖設計案件中，判斷被訴侵權產品是否構成侵權，可以先確定被訴侵權集成電路包含的布圖設計是否與通華芯公司主張的布圖設計相同或部分相同;再對相同部分是否具有獨創性進行認定，如相同部分的具有獨創性，則構成侵權。而對于是否相同的認定，在僅有被訴侵權芯片且當事人未提供被訴侵權布圖設計的情況下，可以通過對被訴芯片反向提取其版圖，即將通過反向工程提取被訴侵權芯片的器件層視圖、金屬層視圖，與權利人的布圖設計中對應的器件層及金屬層進行是否相同或實質相同比對。

　　本案中，工信電司鑒中心[2013]知鑒字第55號《司法鑒定報告書》方法是，鑒定機構將從國家知識產權局調取的通華芯公司THX202H布圖設計的電子版，與其委托北京芯愿景軟件技術有限公司從被訴CR6202T中提取的布圖設計進行比對。在比對時，先對整體布局比對;再按功能進行模塊劃分，比對各功能模塊布圖是否相同。涉案《司法鑒定報告書》第33頁明確載明，芯愿景公司提取了CR6202T的器件層視圖、M1視圖和M2視圖，故民展公司主張涉案鑒定報告未提取被訴侵權芯片的器件層視圖的抗辯，缺乏事實依據。”

　　注釋：

　　[1]根據國家知識產權局公開的集成電路布圖設計專有權公告數據統計，從2001年10月1日至2016年12月31日，在我國登記公告的布圖設計總計為12778件(包括國外的企業和個人在我國登記的所有布圖設計專有權)。而2016年公告的全國集成電路布圖設計專有權總量為1918件。

　　[2]同一性的鑒定需選擇具有資質的司法鑒定機構,對此,筆者整理了近年來接受司法委托，并其所出具的鑒定結論為司法所認可的部分鑒定機構，如北京芯愿景軟件技術有限公司、工業和信息化部軟件與集成電路促進中心、北京紫圖知識產權司法鑒定中心等。

　　來源：IPRdaily中文網(IPRdaily.cn)